［吸引速度］では、プランジャがバイアルからサンプルを吸引する速度を指定します。この速度は、サンプルに適した値に設定してください。粘性の高いサンプルを使用する場合は、[吸引速度] を遅く設定します。
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タイプ |
シリンジ (μL) |
最小 (μL/min) |
最大 (μL/min) |
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標準オートサンプラ |
100 |
10 |
1000 |
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標準オートサンプラ |
900 |
90 |
1000 |
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マイクロオートサンプラ |
8 |
0.7 |
20 |
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マイクロオートサンプラ |
40 |
0.7 |
250 |
[吐出速度] は、プランジャがメタリングデバイスからサンプルを吐出する速度を決定します。 大量のサンプルを注入する場合は、[吐出速度] を高く設定すると、注入サイクルに必要な時間を短縮できます。 粘性の高いサンプルを使用する場合は、[吐出速度] を低く設定します。
上記の [吸引速度] を参照してください
［吸引ポジション］は、ニードルを標準の位置から特定の距離 (mm) だけ離して配置するための垂直オフセットです。［吸引ポジション］オフセットは、許容範囲をカバーするための微量のクリアランスとして、バイアルの下部から計算されます。ニードルがバイアルの底に触れるようにするには、負のオフセット値を使用してください。バイアル下部の沈殿を吸引しないよう、あるいは 2 相サンプルの 1 相を選択するためにバイアルのニードルを上げるには正のオフセットを使用します。
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デフォルトポジション（［吸引ポジション］ = 0.0）は +2.0 mm の垂直オフセットです。 |
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標準オートサンプラ |
標準の位置から -2.5 ～ 35 mm の位置 |
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マイクロオートサンプラ |
標準の位置から -2.5 ～ 35 mm の位置 |