[吸引速度] は、プランジャがバイアルからサンプルを吸引する速度を決定します。この速度は、サンプルに適した値に設定します。粘性の高いサンプルを使用する場合は、[吸引速度] を低く設定します。
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シリンジ (μL) | 最小 (μL/min) | 最大 (μL/min) |
|---|---|---|
5000 |
350.0 |
30000.0 |
[吐出速度] は、プランジャがメタリングデバイスからサンプルを吐出する速度を決定します。 大量のサンプルを注入する場合は、[吐出速度] を高く設定すると、注入サイクルに必要な時間を短縮できます。 粘性の高いサンプルを使用する場合は、[吐出速度] を低く設定します。
上記の [吸引速度] を参照してください
最高速度を達成するには、プレスリットセプタムをお勧めします。 |
［吸引ポジション］は、ニードルを標準の位置から特定の距離 (mm) だけ離して配置するための垂直オフセットです。［吸引ポジション］は、許容範囲をカバーするための微量のクリアランスとして、バイアル/ウェルの下部から計算されます。ニードルがバイアル/ウェルの底に触れるようにするには、負のオフセット値を使用してください。バイアル/ウェル下部の沈殿を吸引しないよう、あるいは 2 相サンプルの 1 相を選択するためにバイアル/ウェルのニードルを上げるには正のオフセットを使用します。
デフォルトポジション（［吸引ポジション］ = 0.0）は +1.0 mm の垂直オフセットです。 |
リミット: 標準の位置から -10 ～ 50 mm の位置
サンプルバイアルからの液体の吸引による一時的な真空状態が確実に解消するための時間です。ニードルは平衡時間の間シートにとどまり、バイアルからサンプルを吸引した後、指定した平衡時間の間、そこにとどまります。
リミット: 0.0 ～ 100.0 秒（デフォルトは 2.0 秒）。
［バイアル/ウェル底部センサ］機能を使用すると、ニードルで不均一なウェル底部を検出し、ニードル位置の深さをバイアルまたはウェルの検出された底部の 1 mm 上に調整します。
［バイアル/ウェル底部センサ］を［吸引ポジション］と組み合わせて使用すると、ニードルの吸引ポジションをカスタマイズすることができます。
注入速度を上げたり、サンプルの沈殿が詰まる可能性がある場合にニードルがウェル底部に接触しないように、［バイアル/ウェル底部センサ］をオフにすることができます。
［バイアル/ウェル底部センサ］をオンにするには、チェックボックスをオンにします。デフォルト設定は [オフ] です。