Absolute EMV전자 증폭기 전압(Electron Multiplier Voltage, EMV)에 입력된 전압 값이 사용해야 할 값임을 지정합니다. 튠파일 값은 사용되지 않습니다. 범위는 0~3,000볼트입니다. 이 범위를 벗어나는 값을 입력할 경우 해당 값은 가장 가까운 한계값으로 자동 변환됩니다. 허용 범위에 속하는 값은 가장 가까운 스텝 크기로 자동 조정됩니다.
ALS(액상 시료 자동 주입기)시료 주입 프로세스를 자동화하는 데 도움을 주는 자동 액상 시료 주입기(Automatic Liquid Sampler)입니다. 바이알을 트레이에 배치하면 기기가 바이알을 회수하고 시료 및 용매 세척을 수행한 다음 지정된 양의 시료를 주입합니다.
Amount(양)시료에 포함된 화합물의 양입니다.
AMU(원자 질량 단위)원자 질량 단위(Atomic mass units)로, 질량 분석기에서 생성된 이온 조각의 크기를 나타내는 데 사용되기도 합니다. 정확한 용어는 질량대 전하비이며 축약형은 m/z입니다.
AMUgain질량 필터의 DC 전압 대 RF 전압 비를 조정하여 질량 피크의 폭에 영향을 줍니다. 값이 높을수록 피크의 폭이 좁아지지만, 낮은 질량에서의 피크보다 높은 질량에서의 피크에 더 많은 영향을 줍니다.
AMUoffset질량 분석법에서 질량 필터의 초기 DC 오프셋 값 대 RF 전압을 조정하여 질량 피크의 폭에 영향을 줍니다. 값이 높을수록 모든 질량에서 피크의 폭이 좁아집니다.
Area(면적)Data Analysis 모듈에서, 베이스라인 이상으로 나타나는 크로마토그래피 피크의 면적을 계산하여 얻어진 결과
Area percent(면적 백분율)Data Analysis 모듈에서, 각 피크의 면적을 얻어진 모든 피크의 총 면적에 대한 백분율로 계산합니다.
Area reject(면적 제한)Data Analysis 모듈에서, 관심 있는 피크의 가장 작은 면적을 설정하는 적분 이벤트입니다. 적분기는 베이스라인 보정 후 설정된 면적 제한 값보다 작은 모든 피크를 제외 합니다.
Area sum(면적 합)Data Analysis 모듈에서, 적분기가 면적 합 켜짐(area sum on) 시간과 면적 합 꺼짐(area sum off) 시간 사이의 면적을 합산하는 지점(켜짐/꺼짐)을 설정하는 적분 시간 설정 이벤트입니다. 면적 합산에 의해 생성된 피크의 머무름/이동 시간은 시작 시간과 종료 시간의 평균입니다.
Attractor(어트랙터)Data Analysis 모듈에서, 새 요소를 시그널에 직접 배치하거나 인접한 베이스라인 세그먼트에 직접 연결할 수 있게 하는 수동 적분 도구입니다.
Audit trail(감사 추적)사용자가 데이터를 생성, 수정 또는 삭제한 날짜와 시간이 독립적으로 기록되며 데이터에 완벽하게 연결됩니다.
분석법(method), 주입(injection), 결과 세트(result set)의 3가지 감사 추적을 사용할 수 있습니다. 분석법 감사 추적(method audit trail)은 2개의 연속 저장된 처리 방법 버전에 해당하는 모든 분석법 파라미터 변경 사항을 나열합니다. 주입 감사 추적(injection audit trail)은 처리 방법, 처리 또는 수동 연산의 링크와 같이 주입 결과를 변경할 수 있는 모든 작업을 나열합니다. 결과 세트 감사 추적(result set audit trail)은 결과 세트의 각 주입에 대해 수행된 모든 작업을 수집합니다.
Autotune(자동튜닝)GC/MS 기기의 경우 넓은 질량 범위에 걸쳐 기기 감도를 최대화합니다. 기존의 존재비가 필요하지 않은 최대 감도가 필요한 응용 분야에 이 튜닝을 사용합니다. 이 튜닝은 또한 수동튜닝의 좋은 시작점입니다. 예를 들어, PFTBA를 튜닝 화합물로 사용하는 GC/MS의 경우 질량은 69, 219 및 502m/z입니다.
Average calibration point(평균 검량점)Data Analysis 모듈에서, 곡선의 특정 검량 수준에 대한 모든 검량점의 평균입니다.
Baseline at valleys(밸리에서의 베이스라인)Data Analysis 모듈에서, 적분기가 피크 사이의 모든 밸리에서 베이스라인을 재설정하는 지점(켜짐/꺼짐)을 설정하는 적분기 이벤트입니다. 이 이벤트는 피크가 넓고 낮은 피크 뒤에 있고 베이스라인을 모든 밸리 지점으로 재설정하려는 경우에 유용합니다.
Baseline backwards(베이스라인 뒤로 이동)Data Analysis 모듈에서, 표준 적분기가 베이스라인을 명시된 베이스라인 지점에서 이 지점까지 수평으로 뒤로 확장하는 지점을 설정하는 적분기 이벤트입니다.
Baseline correction(베이스라인 보정)Data Analysis 모듈에서, 적분하는 동안 피크의 시작과 끝에 크로마토그래피 베이스라인을 설정하는 것을 말합니다.
Baseline correction mode(베이스라인 보정 모드)Data Analysis 모듈에서, 베이스라인 보정 유형을 고급(Advanced), 일반(Classical) 또는 일반(침투 없음)(Classical, no penetration)으로 설정하는 적분기 이벤트입니다.
Baseline hold(베이스라인 유지)Data Analysis 모듈에서, 베이스라인 유지 이벤트가 켜진 지점부터 베이스라인 유지 이벤트가 꺼진 지점까지 설정된 베이스라인의 높이에 수평 베이스라인이 그려지는 적분기 이벤트입니다.
Baseline next valley(베이스라인 다음 밸리)Data Analysis 모듈에서, 적분기가 피크 사이의 다음 밸리에서 베이스라인을 재설정한 후, 기능을 자동으로 취소하는 지점을 설정하는 적분기 이벤트입니다. 이 기능은 뒤에 있거나 서로 가까운 개별 클러스터에 있다고 가정하는 병합된 피크 그룹에서 유용합니다.
Baseline now(베이스라인 나우)시그널이 피크에 있는 경우, 적분기가 베이스라인을 데이터 점의 현재 높이로 재설정하는 지점(시간)을 설정하는 적분기 이벤트입니다. 신호가 베이스라인에 있는 경우 기능은 무시되고 감지된 베이스라인이 사용됩니다.
Baseline penetration(베이스라인 침투)데이터 분석에서 적분하는 동안 신호가 설정된 베이스라인 아래로 떨어지는 상황입니다.
BFB브로모플루오로벤젠으로(Bromofluorobenzene), 휘발성 화합물 분석을 위한 튜닝 기준 화합물로 사용됩니다(EPA method 624).
Blank(바탕시료)적절한 용매로만 구성되고 일반적으로 다른 시료 유형과 동일한 추출 및 전처리 절차를 거치지 않는 시료를 말합니다. 이 시료 유형은 이전 시료의 교차 오염을 검사 및 평가하고 다른 시료의 주입 전에 시스템을 플러싱하기 위해 시료 간의 시퀀스 일괄 처리에 사용할 수 있습니다. 바탕 시료를 미리 정해진 위치 또는 무작위 위치의 일괄 처리 시퀀스에 물리적으로 배치하여 바탕 시료를 주입할 시점을 결정할 수 있습니다.
BNA compounds(BNA 화합물)유기 용매로 추출하여 분석할 수 있도록 준비된 염기성/중성/산성 화합물을 말합니다. BNA 화합물은 준휘발성 화합물이라고도 합니다.
Bracketing(일괄처리)결과 세트를 재처리하는 방법입니다. 시료를 정량화하는 검량 곡선은 시료 전/후에 주입된 검량 표준물질을 통해 작성됩니다.
Bubble(버블)피크 탐색기(Peak explorer) 다이어그램(버블형 차트)에서 피크를 원의 형태 그래픽으로 표현한 것입니다.
Bwidth(밴드위드쓰)Savitsky-Golay 필터에서 사용할 평활점의 수를 설정합니다. Savitsky-Golay는 유한 구간 반복(FIR, Finite Interval Repeating) 필터입니다. 이 필터는 데이터 왜곡을 최소화하고 피크 면적과 피크 X축 값을 보존합니다. 각 데이터 점은 앞의 N개 점, 뒤의 N개 점으로 평균화됩니다. N + N + 1은 필터의 평활점 수이며 항상 홀수입니다.
BWidth = (Number of smoothing points) * (step size)
밴드위드쓰 설정으로 인해 필터 평활점의 수가 5개 미만이 되는 경우, 시스템은 5개를 허용하도록 점의 수를 늘립니다. 밴드위드쓰를 0으로 설정하면 평활 필터가 제거됩니다. 밴드위드쓰가 넓을수록 데이터가 더욱 평활화됩니다.
Calibrated compound(검량 화합물)검량 테이블에 존재하는 화합물입니다.
Calibrated range(검량 범위)시간 초과 그룹(Timed group)을 참조하십시오.
Calibration(검량)Data Analysis 모듈에서, 알려진 양의 특정 화합물에 대한 기기 감응을 정의하는 프로세스입니다. 결과로 얻어진 검량 곡선은 농도를 알 수 없는 시료에서 해당 화합물의 양을 정량화하는 데 사용됩니다.
크로마토그래피 데이터에 대해 측정된 기기 감응은 적분된 피크 높이 또는 면적입니다. 비간섭(비공용출) 화합물의 혼합물을 사용하여 단일 검량에서 여러 화합물의 감응을 정의할 수 있습니다. 그런 다음 화합물의 머무름 시간과 감응 계수가 검량 프로세스에 배치됩니다.
Calibration curve(검량 곡선)하나 이상의 검량 시료에서 얻어진 농도와 감응 데이터의 그래프입니다. 이 곡선은 동일한 기기 조건에서 내부 표준물질(존재하는 경우)의 농도가 일정할 때 특정 화합물이 다양한 농도에 어떻게 감응하는지 보여줍니다. 신뢰할 수 있는 결과를 제공하려면 검량 곡선에 미지 시료에서 발견될 것으로 예상되는 양을 포함하는 수준이 2개 이상 있어야 합니다.
Calibration curve window(검량 곡선 창)Data Analysis 모듈에서, 검량 곡선, 개별 검량점, 평균 검량점, 중점 주입 시 중점 화합물의 식 및 통계를 표시합니다. 이것은 해당 화합물의 양을 계산하는 데 사용되는 곡선(결과로 얻어진 검량 곡선)입니다.
Calibration level(검량 레벨)Data Analysis 모듈에서, 검량 곡선의 한 점 또는 점들의 집합입니다. 처리 방법의 양과 그 양에 해당하는 감응으로 정의됩니다. 단일 수준 검량의 경우, 검량 레벨은 항상 1개입니다. 신뢰할 수 있는 정량적 결과를 얻으려면 검량 곡선에 2개 이상의 레벨이 있어야 하며, 이는 곧 다중 수준 검량을 의미합니다.
Calibration point(검량점)Data Analysis 모듈에서, 검량 표준물질을 처리할 때 하나의 개별 검량점이 추가됩니다. 동일한 수준의 표준물질이 여러 개 있는 경우, 평균 검량점이 자동으로 계산됩니다.
Calibration standard(검량 표준물질)Data Analysis 모듈에서, 알려진 양의 정량화할 화합물을 포함하는 시료입니다. 소프트웨어에서는 검량 표준물질을 검량 표준물질 바이알의 주입에서 언급합니다.
Calibration table(검량 테이블)Data Analysis 모듈에서, 갖가지 농도의 다양한 화합물의 감응을 정의하는 다차원 매트릭스입니다.
감응(Response)=f(양(Amount)), 또는 양(Amount)=f(감응(Response))
검량 테이블에 있는 화합물의 양과 감응 정보를 그래픽으로 표현한 것입니다.
CDS(크로마토그래피 데이터 시스템)크로마토그래피 데이터 시스템(Chromatography Data System); 크로마토그래피 검출기에 의해 전달되는 크로마토그래피 결과를 수집하고 분석하는 크로마토그래피 소프트웨어
Chromatogram(크로마토그램)선택한 검출기 신호와 기기 곡선을 선택한 레이아웃으로 표시합니다.
질량 분석법에서 MSD 시스템에 의해 생성된 크로마토그램은 실행 중 각 시점(스캔)에서 생성된 이온 존재비의 플롯입니다. 크로마토그램은 TIC(총 이온 크로마토그램) 또는 EIC(추출 이온 크로마토그램)의 2가지 유형이 표시될 수 있습니다.
CI mode(CI 모드)질량 분석법에서 MSD에 대한 화학적 이온화 설정을 의미합니다. 여기에는 화학적 이온화 이온화원, 유속 제어 장치, 인터페이스 부품 및 사용자 제공 시약 가스가 포함됩니다.
Classical (no penetrations) baseline correction(일반(침투 없음) 베이스라인 보정)Data Analysis 모듈에서, 적분기가 베이스라인을 재구성하여 베이스라인 침투를 제거하는 베이스라인 보정의 한 형태입니다.
Classical baseline correction(일반 베이스라인 보정)Data Analysis 모듈에서, 적분기가 베이스라인 침투를 수용하는 베이스라인 보정의 한 형태입니다.
Compound(화합물)화합물은 다중 신호 검량에서 일반적으로 신호당 하나씩 여러 개의 피크로 구성될 수 있습니다. 단일 신호 검량에서 화합물은 하나의 피크를 나타냅니다.
Compound table(화합물 테이블)Data Analysis 모듈에서, 분석된 화합물의 이름과 머무름 시간을 지정하는 메쏘드의 일부입니다.
Concentration(농도)Data Analysis 모듈에서, 각 화합물에 대해 계산됩니다. 공식은 프로세싱 메쏘드의 설정에 따라 다릅니다.
농도(Concentration) = 양(Amount) * 승수(Multiplier)(s) * 희석배수(Dilution factor (s))
또는
농도(Concentration) = 양(Amount) * 승수(Multiplier)(s) / 희석배수(Dilution factor (s))
Contextual tab(상황별 탭)하나 이상의 리본 탭을 포함하는 탭입니다. 상황별 탭(및 포함된 리본 탭)은 특정 사용자 인터페이스 요소 또는 대상이 선택된 경우에만 표시됩니다. 여기에는 선택한 요소 또는 대상에만 관련된 기능이 포함됩니다.
Curve fits(곡선 피팅)OpenLab CDS는 다양한 모델에 따라 검량 곡선을 계산할 수 있습니다. 선형(Linear), 2차(quadratic), 로그(Logarithmic), 지수(Exponential) 및 로그(Log)/로그(Log) 모델이 지원됩니다. 각 검량 화합물에 대해 개별적으로 검량 곡선 모델을 설정할 수 있습니다. 또한, 그래프의 원점(0, 0)은 화합물마다 다른 방식으로 처리될 수 있습니다.
Data Processing view(데이터 처리 화면)데이터를 처리하는 데 사용되는 Data Analysis 모듈의 기본 화면입니다(예: 신호 및 결과 검토, 수동 적분 수행 등).
Data Selection view(데이터 선택 화면)애플리케이션이 시작될 때 표시되는 Data Analysis의 기본 화면입니다. 이 화면에서 프로젝트의 데이터 폴더를 찾아보고 검토 또는 처리할 데이터를 선택할 수 있습니다.
Delta EMV(델타 EMV)질량 분석법에서 튠파일 전자 증폭기 전압에 대한 전자 증폭기 전압(EMV)의 변화입니다. 허용 값의 범위는 EMV(델타 EMV와 튜닝 EMV의 합)가 범위 0~3,000볼트에 있는 것과 같습니다. 입력하는 값은 가장 가까운 스텝 크기로 자동 조정됩니다.
DFTPP(데카플루오로트리페닐포스핀)데카플루오로트리페닐포스핀(Decafluorotriphenylphosphine); 질량 분석에서 준휘발성 화합물 분석을 위한 튜닝 기준 화합물로 사용됩니다(EPA method 625). GC/MS와 US EPA 분석법에만 해당합니다.
Dilution factor(희석배수)계산 결과에 적용되는 배율 계수입니다. 희석은 시료 준비 중에 발생하는 시료 부피의 변화를 보정하는 데 사용할 수 있습니다. 1개에서 5개의 희석배수를 인젝션 리스트(Injection list)에 정의할 수 있습니다.
Docking area(결합 면적)작업 영역을 참조하십시오.
Downslope(다운슬로프)Data Analysis 모듈에서, 신호의 강도가 감소하는 피크의 테일링 에지입니다.
Drop line(드롭 라인)Data Analysis 모듈에서, 적분 시 첫 번째 피크의 시작 지점에서 두 번째 피크의 끝 지점까지 베이스라인을 그리고 밸리에서 베이스라인까지 수직으로 떨어뜨려 2개의 분리되지 않은 피크를 분리하는 한 방법입니다.
Dwell time(드웰 타임)질량 분석법에서 시료 수와 적분 시간의 곱입니다. 신호를 증폭하기 위해 SIM 데이터 수집에 253µs의 고정 적분 시간이 사용되고 Integer에 설정된 튠파일 값은 무시됩니다. 따라서 SIM 존재비와 포화 수준은 튜닝의 스캔 모드 또는 프로필 스캔과 다를 수 있습니다. 차이의 양은 대략 253µs의 SIM 적분 시간에 대한 튠파일 적분 시간의 비율에 따라 달라집니다.
Dynamic ramping(다이나믹 램핑)질량 분석법에서 다른 질량에 대해 다른 전압을 설정하여 관심 전체 질량 범위에 걸쳐 신호를 최적화할 수 있습니다. 반대로, SIM 램핑을 사용하면 특정 전압에서 1개의 튜닝 질량에 대해 신호를 최적화할 수 있습니다.
ECM (Enterprise Content Management)ECM (Enterprise Content Management); 조직의 문서 및 조직의 프로세스와 관련된 기타 콘텐츠를 구성하고 저장하는 소프트웨어입니다. 공동 작업 및 콘텐츠 재사용, 보관 도구 및 기타 콘텐츠 서비스가 포함됩니다.
ELN(전자연구노트)전자 연구 노트(Electronic Lab Notebook); 종이 연구 노트를 대체하도록 설계된 실험 중심 소프트웨어입니다. 이 소프트웨어는 연구 멤버들이 정보를 구성하고 공유할 수 있는 도구를 제공합니다. 특정 ELN은 특정 애플리케이션 또는 데이터를 지원하고, 일반 ELN은 모든 데이터와 형식을 지원합니다.
EM Saver(EM 세이버)GC/MS 기기의 경우, 화합물 검량 곡선의 상한 범위에서 비선형 검출기 감응을 방지하는 데 사용됩니다. 이 비선형 감응은 이온 농도가 높은 화합물에서 게인 값 또는 dwell time을 너무 높게 설정하면 발생할 수 있습니다. EM 세이버를 활용하면 EM을 포화시키지 않고 높은 게인 값과 dwell time을 사용할 수 있습니다.
EM 세이버는 단일 사중극자에서 SIM 모드와 함께 사용됩니다. EM 세이버 사용에 따른 이점은 보다 일관된 검출기 감응과 EM 수명 연장입니다.
Emission(방출)GC/MS 기기의 경우, MSD에서 필라멘트의 방출 전류를 설정할 수 있지만 기본 설정이 최적으로 권장됩니다. 전류가 높을수록 전자가 더 많이 방출됩니다. 방출 전류를 낮게 설정하면 이온화가 줄어들어 감도가 떨어질 수 있습니다. 전류를 높게 설정하면 시료의 조각화가 심화되고 필라멘트가 더 빠르게 연소됩니다.
최소: 0
최대: 410
스텝 크기: 1
EMVolts(EMV)질량 분석법에서 전자 증폭기(검출기의 일부)의 전압을 설정합니다. 전압을 높이면 신호 감도가 증가합니다. EMVolts를 높이면 질량 분석기에서 나오는 신호가 높아지면서 존재비가 증가합니다. EMVolts를 높이면 증폭기의 수명이 줄어들기도 합니다. 적절한 감도를 제공하는 가장 낮은 전압에서 증폭기를 작동시키십시오.
GC/MS 기기의 경우, 수명을 늘리려면 용매 피크가 지나갈 때까지 증폭기(및 다른 모든 전압)를 끄십시오(0볼트). (용매 지연이 지정된 경우, 전압은 용매 지연이 끝날 때까지 꺼집니다). 그에 따라, 농도가 높은 시료를 분석하거나 CI 모드에서 작동하는 경우 EMVolts를 낮추십시오.
EntLens(입구렌즈)입구 렌즈 게인으로, 입구 렌즈에 인가되는 질량 의존 전압을 결정하는 데 사용되는 값입니다. 입구 렌즈는 질량 필터에 들어가기 전 이온이 통과하는 마지막 렌즈입니다.
일반적으로, 최대 존재비를 제공하는 설정을 찾기 위해 튜닝 중에 입구 렌즈 전압이 램핑됩니다.
최소: -200
최대: 200
스텝 크기: 0.1
Expected retention time(예상 머무름 시간)Data Analysis 모듈에서, 피크가 용출될 것으로 예상되는 시간입니다. 피크 식별 테이블의 피크 머무름 시간으로, 시간 기준 피크(있는 경우)에 의해 결정된 드리프트 보정에 의해 보정됩니다.
Exponential tangent skim(지수 탄젠트 스킴)Data Analysis 모듈에서, 높이가 보정된 자식 피크의 시작과 끝을 통해 지수 곡선을 그리는 적분 절차입니다.
External standard (ESTD) quantitation(외부 표준물질(ESTD) 정량화)미지 물질의 감응을 동일한 조건에서 분석된 하나 이상의 검량 표준물질의 감응과 비교하는 기본 정량화 절차입니다.
Extracted Ion Chromatogram (EIC)(추출 이온 크로마토그램(EIC))질량 분석법에서 스캔 또는 SIM 모드에서 수집된 데이터의 특정 질량 또는 질량 범위에서 찾아낸 것입니다.
Focused injection(중점 주입)Data Analysis 모듈에서, 핀 상태(고정 또는 고정 해제)와 관계없이 Injection Tree(주입 트리)에서 마지막으로 강조 표시된 주입입니다.
Front Peak skim height ratio(전면 피크 스킴 높이 비율)Data Analysis 모듈에서, 스킴 밸리 비율과 함께 용매의 전면에 있는 작은 피크 또는 다른 큰 피크를 스키밍하는 탄젠트의 조건을 설정하는 초기 적분 이벤트입니다. 베이스라인이 보정된 부모 피크 높이와 베이스라인이 보정된 자식 피크 높이의 비율입니다.
GAIN(게인)질량 분석법에서 전자 증폭기(EM) 전체에 인가된 전압의 매우 작은 전류가 더 높고 더 정량화된 전류로 증폭되는 정도를 측정한 것입니다.
Gain Factor(게인 팩터)질량 분석법에서 EM 게인 팩터는 검출기의 신호 감도를 조정합니다. EM 게인 팩터는 증폭기가 노후화됨에 따라 일정하게 유지되는 이점이 있습니다. 따라서, 게인 팩터를 사용하면 모든 기기에 대한 신호 재현성이 훨씬 높아지고 기기 간 일관성이 향상됩니다.
1.0의 게인 팩터는 검출기에 의한 100,000의 신호 배수(게인)를 나타냅니다. 게인 팩터가 높을수록 신호 감도가 증가하지만 EM의 수명이 줄어들 수도 있습니다. 또한 더 높은 게인 팩터를 사용하면 검량 곡선의 상한 범위에 대한 비선형 감응이 발생할 수 있습니다. 원하는 검출기 한계를 달성할 수 있는 가능한 가장 낮은 게인값을 사용하는 것이 좋습니다.
단일사중극자의 게인 팩터 설정 범위는 0.3~25입니다.
게인 팩터와 EM 전압의 관계는 튜닝 중 튠파일에 저장되고 업데이트됩니다.
Graph(그래프)x축과 y축을 사용하는 다이어그램입니다. 신호 그래프에서 신호 감응은 머무름 시간에 대해 표시됩니다. 오버레이된 그래프에 여러 신호를 표시할 수 있습니다.
Height percent (Height %)(높이 백분율(높이 %))Data Analysis 모듈에서, 각 피크의 높이를 얻어진 모든 피크의 총 높이에 대한 백분율로 계산합니다.
Height reject(높이 제한)Data Analysis 모듈에서, 가장 작은 관심 피크의 높이를 정의하는 초기 적분 이벤트입니다. 베이스라인 보정 후 높이 제한 값보다 작은 피크는 제한됩니다.
Initial events(초기 이벤트)Data Analysis 모듈에서, 적분 시작 시 적용되는 적분 이벤트입니다. 초기 이벤트 값은 시간 설정 값에 의해 변경될 때까지 유효합니다.
Injection list(주입 목록)Data Analysis 모듈에서, 관련 시퀀스, 시료 및 주입 관련 정보와 함께 주입을 표시하는 테이블입니다.
Injection results(주입 결과)Data Analysis 모듈에서, 하나 이상의 신호에 대한 적분, 정량화, 기타 피크 및 화합물 결과를 표시하는 테이블입니다.
Integration(적분)Data Analysis 모듈에서, 크로마토그래피 피크의 면적을 결정하는 프로세스입니다. 이 프로세스에는 피크의 좌표(시작점, 정점 및 끝점)를 결정하는 작업도 수반됩니다.
Integration event(적분기 이벤트)Data Analysis 모듈에서, 적분 조건을 정의하는 파라미터입니다. 두 가지 적분기 이벤트 세트가 있습니다. 초기에 설정 된 이벤트는 실행 시작 시 적용되고, 추가적인 이벤트 값도 지정된 시간에 적용됩니다.
Integration on/off(적분 켜짐/꺼짐)Data Analysis 모듈에서, 적분기가 적분을 중지하고 시작하는 지점을 설정하는 적분 이벤트입니다. 적분기가 꺼진 시간과 켜진 시간 사이의 피크는 무시됩니다. 이 기능은 크로마토그램의 일부를 무시하거나 베이스라인 간섭을 제거하는 데 유용합니다.
Integration wheel(적분 휠)Data Analysis 모듈에서, 마우스를 베이스라인 지점 가까이로 옮기면 나타나는 수동 적분 도구입니다. 이 단일 베이스라인 지점을 사용해 수행할 작업의 가능한 옵션을 쉽게 선택할 수 있습니다.
Internal standard(내부 표준물질)시료 준비 후 분석하기 전에 모든 표준물질, 바탕시료, 매트릭스 첨가, 매트릭스 첨가 이중 시료 및 미지 시료에 추가되는 화합물입니다. 내부 표준물질은 알려진 농도로 정확히 추가됩니다. 표적 화합물에 대한 상대 감응 계수의 계산에 필요합니다.
내부 표준물질은 화학적으로나 머무름 시간 측면에서 표적 화합물과 유사해야 합니다. 단, 머무름 시간 또는 (질량 분석을 통해) 이온으로 구별할 수 있어야 합니다.
Ion focus(이온 포커스)이온 포커스 렌즈(이온화원의 일부)의 전압을 설정합니다. 이온 포커스는 이온 존재비에 영향을 줍니다. 일반적으로, 오프셋은 최적의 이온 존재비를 제공하는 이온 집속 오프셋을 찾기 위해 튜닝 중에 램핑됩니다.
최소: 0
최대: 242
스텝 크기: 0.95
ISTD(Internal Standard, 내부표준물질)Internal standard를 참조하십시오.
ISTD amount(내부표준물질의 양)내부 표준물질 보고서 계산을 사용할 때 시료에 추가되는 내부 표준물질 양입니다.
Layout(레이아웃)어떤 창이 표시되고 어떻게 정렬되는지 정의합니다. 레이아웃은 변경될 수 있으며 사용자별로 자동 저장됩니다. 사용자는 애플리케이션의 특정 보기에서 여러 레이아웃을 전환할 수 있습니다.
Legend(범례)표시된 데이터 콘텐츠(예: 신호 이름, 시료 이름 등)를 설명하는 그래프의 일부입니다.
LIMS(림스)실험실 정보 관리 시스템(Laboratory Information Management System)으로, 시료의 일괄 처리와 관련된 구조화된 데이터를 관리하고 규제 기관과 연구 과학자들의 보고 및 감사 요구를 충족하기 위한 시료 중심 소프트웨어입니다.
Lock compound(고정 화합물)피크를 생성하는 화합물로, 모든 Retention Time Locking(머무름 시간 고정) 검량 및 잠금 파일에서 평가됩니다.
Lock pressure(고정 압력)RTL 잠금 파일 수집 압력 및 머무름 시간을 검량 곡선 및 고정 머무름 시간과 비교하여 결정되는 압력입니다.
Lock retention time(고정 머무름 시간)고정 화합물의 원하는 머무름 시간입니다.
Mass offset(질량 오프셋)질량 축 오프셋의 값을 설정합니다. 이 값은 질량 축을 검량하는 식에 사용되는 가산 계수입니다.
최소: -499
최대: 499
스텝 크기: 1.
Mass Spectrum(질량 스펙트럼)선택한 머무름 시간에 화합물에서 발견되는 모든 이온의 존재비와 질량을 프로파일링합니다. MS Peak Table을 사용하여 막대 그래프 또는 표 형식으로 표시할 수 있습니다.
Matrix(매트릭스)분석할 시료의 우세 물질입니다. 환경 시료에서 매트릭스는 보통 물이나 토양입니다. 약물 시료에서 매트릭스는 보통 소변이나 혈액입니다.
Method(메쏘드)Acquisition method(.amx 파일)에는 데이터 수집을 위한 기기별 파라미터가 포함됩니다.
Processing method(.pmx 파일)은 Data Analysis 컨텍스트에서 사용됩니다. 여기에는 데이터를 처리하고 결과를 생성하는 데 필요한 정보와 파라미터가 포함됩니다.
Sample preparation method(.smx 파일)에는 배출 속도 또는 특수 니들 세척 설정과 같은 샘플러 컨텍스트의 파라미터가 포함됩니다.
Method calibration curve(분석법 검량 곡선)Data Analysis 모듈에서, processing method와 함께 저장되는 화합물의 검량 곡선입니다. Method calibration curve는 검량 표준물질이 처리될 때 생성/업데이트됩니다.
Method parameters(분석법 파라미터)사용자가 분석법 사용자 인터페이스에 입력한 모든 값을 크게 일컫는 용어입니다. 이 용어는 분석법 설명과 같은 단순 값뿐만 아니라 알고리즘(예: processing method의 화합물 양) 또는 기기(예: acquisition method의 기기 설정)의 동작을 정의하는 보다 복잡한 파라미터를 아우릅니다.
Method selector(분석법 선택기)Data Analysis 모듈에서, Data Processing view에 있는 탐색 창의 섹션입니다. 분석법 선택에서 작업할 processing method를 선택할 수 있습니다.
Multiplier(승수)보고되기 전에 계산 결과에 적용되는 배율 계수입니다. 승수는 시료 준비 중에 발생하는 시료 부피의 변화를 보정하는 데 흔히 사용됩니다. 1개에서 5개의 승수를 주입 목록에 정의할 수 있습니다.
m/z질량 분석법에서 질량 분석기로 생성된 이온 조각의 크기를 보고하는 데 사용되는 단위입니다. 이온의 질량을 전하로 나눈 값입니다(보통 +1).
Named group(명명된 그룹)식별된 화합물 그룹 및 시간 그룹을 말합니다. 그룹 양은 개별 화합물과 시간 그룹의 양을 합한 것입니다.
Navigation pane(탐색 창)Data Analysis 모듈에서, 애플리케이션의 왼쪽에 있는 영역입니다. 제목 표시줄, 추가 섹션을 포함할 수 있는 탐색 트리 및 보기 선택 버튼으로 구성됩니다. 탐색 트리의 레이아웃 및 목적은 선택한 보기에 따라 달라집니다.
Navigation tree(탐색 트리)트리 계층 구조에서 모든 종류의 대상 탐색에 대한 일반적인 용어입니다. 대상이 주입이면 주입 트리입니다.
Nested baseline(겹친 베이스라인)데이터 분석에서 겹친 피크의 베이스라인입니다.
Nested peak(겹친 피크)Data Analysis 모듈에서, 올라탄 피크, 스킴 피크 또는 자식 피크라고도 합니다.
New Exponential tangent skim(새 지수 탄젠트 스킴)Data Analysis 모듈에서, 어미 피크의 테일링 끝에 근사하기 위해 지수 곡선을 그리는 적분 절차입니다.
Norm%Data Analysis 모듈에서, 각 피크의 결과를 실행 중인 모든 피크의 총 양에 대한 백분율로 계산하기 전에 감응 계수를 적용하여 양을 계산합니다.
Peak baseline(피크 베이스라인)Data Analysis 모듈에서, 피크의 시작 지점부터 피크의 하한을 정의하는 피크의 끝 지점까지 그린 선입니다. 피크 면적은 베이스라인 위의 면적으로 계산됩니다.
Peak identification(피크 식별)Data Analysis 모듈에서, 예상 화합물의 테이블을 참조하여 수집된 신호에서 크로마토그래피 피크를 식별하는 프로세스입니다.
Peak shoulder(피크 숄더)Data Analysis 모듈에서, 2개의 피크가 너무 가까이에서 용출되어 그 사이에 밸리가 생기지 않고 분리되지 않을 때 숄더가 발생합니다. 숄더는 피크의 선행 에지(전면) 또는 피크의 후행 에지(후면)에서 발생할 수 있습니다. 숄더가 검출되면 탄젠트 스킴 또는 드롭 라인에 의해 적분될 수 있습니다.
Peak slope(피크 기울기)Data Analysis 모듈에서, 시간 대비 화합물 농도의 변화를 나타내는 피크 기울기는 피크의 시작, 피크 정점 및 피크의 끝을 결정하는 데 사용됩니다.
Peak tailing(피크 테일링)Data Analysis 모듈에서, 후행 에지의 정점부터 베이스라인까지 도달하는 시간이 선행 에지의 베이스라인부터 정점까지 도달하는 시간보다 더 큰 피크의 비대칭입니다.
Peak width(피크 폭)Data Analysis 모듈에서, 용질이 컬럼에 머무는 시간이 길어질수록 컬럼 내 밴드의 폭이 증가합니다. 피크 폭은 피크의 다양한 높이에서 측정될 수 있습니다.
초기 적분기 이벤트에는 유효 피크의 최소 폭을 반높이에서 분 단위로 정의하여 베이스라인 잡음과 실제 피크를 구별하는 데 사용됩니다.
시간 적분 이벤트에는 피크 폭 설정을 다음과 같이 지정합니다. 자동(Auto)은 피크 폭의 자동 업데이트를 활성화하며, 고정(Fixed)은 피크 폭을 지정된 값으로 설정하고 피크 폭의 자동 업데이트를 비활성화.
Peak-to-valley ratio(피크 투 밸리 비율)Data Analysis 모듈에서, 베이스라인 분리를 표시하지 않는 2개의 피크가 드롭 라인 또는 밸리 베이스라인을 사용하여 분리되는지를 결정하는 데 사용되는 시간 적분 이벤트입니다. 더 작은 피크의 베이스라인 보정된 높이와 밸리의 베이스라인 보정된 높이의 비율입니다. 피크 밸리 비율이 사용자 지정 값보다 낮을 경우 드롭 라인이 사용됩니다. 그 외의 경우에 베이스라인은 첫 번째 피크의 시작 지점 베이스라인에서 밸리로, 그리고 밸리에서 두 번째 피크의 끝 지점 베이스라인으로 그려집니다.
PFTBA(페르플루오로트리부틸아민)페르플루오로트리부틸아민(Perfluorotributylamine)으로, 모든 GC/MS 자동튜닝을 위한 튜닝 화합물로 사용됩니다. m/z 31, 50, 69, 100, 131, 219, 264, 414, 464, 502, 576, 및 614에서 이온이 있습니다.
Pinned injection(고정 주입)Data Analysis 모듈에서, 주입 트리에 수직 핀이 있는 주입입니다.
Processing(처리)Data Analysis 모듈에서, 결과 계산을 위해 주입에 분석법 파라미터를 적용하는 것을 말합니다. Reprocessing(재처리)를 참조하십시오.
Quantitation(정량)Data Analysis 모듈에서, 알려진 양의 화합물을 포함하는 검량 표준물질의 감응으로 구성된 검량 곡선을 이용해 미지 시료에서 화합물의 농도를 결정하는 프로세스입니다.
QuickTune(퀵튠)질량 분석법에서, 허용 가능한 감응 및 분리능과 정확한 질량값을 보장하기 위해 미세 튜닝을 제공합니다. 질량 축, 피크 폭 및 EM 전압만 조정되고 렌즈는 영향을 받지 않습니다.
3가지 튜닝 질량의 상대 존재비는 조정하지 않습니다. 이러한 상대 존재비가 허용 가능한 값인 경우(즉, 기기가 이미 거의 튜닝되어 있는 경우) 일일 튜닝에 QuickTune이 선호됩니다.
Recalibration(재검교정)Data Analysis 모듈에서, 검량 표준물질의 새 주입을 기반으로 검량 테이블의 검량 정보(감응 및 머무름/이동 시간)를 업데이트하는 프로세스입니다. 재검교정은 언제든지 수행할 수 있으며 검량 정보 업데이트에는 기존 검량 데이터가 포함되거나 제외될 수 있습니다.
Recognize negative peaks(네거티브 피크 인식)Data Analysis 모듈에서, 적분기가 마이너스 피크를 인식하고 베이스라인 침투 후 더 이상 자동으로 베이스라인을 재설정하지 않는 지점(켜짐/꺼짐)을 설정하는 적분 이벤트입니다.
Reference spectrum(레퍼런스 스펙트럼)화합물의 식별을 확인하는 데 사용되는 UV 또는 MS 스펙트럼입니다.
Relative response factor(상대 감응 계수)Data Analysis 모듈에서, 화합물의 상대 감응 계수는 감응 계수가 잘 특성화된 다른 화합물(일반적으로 주요 화합물)에 대한 반응입니다. 상대 감응 계수는 검량 표준물질을 사용할 수 없을 때 사용됩니다. 일반적으로 ISTD 검량에 사용됩니다.
Relative retention time(상대 머무름 시간)Data Analysis 모듈에서, 미량 성분의 식별을 위해 여러 규제 분석법에 지정되어 있습니다. 상대 머무름 시간은 주 기준 피크에 따라 계산됩니다.
Reporting heading(보고서 머릿말)새로 생성된 보고서 템플릿 상단에 기본적으로 표시되는 텍스트입니다. 여기에 표시되는 모든 텍스트는 보고서 상단에도 표시됩니다.
Reporting view(보고서 보기)Data Analysis 모듈에서, 주입 세트에 대한 보고서를 생성할 수 있는 인터페이스 입니다. 보고서는 미리 보기, 인쇄 및 내보내기가 가능합니다. 템플릿을 편집할 권한이 있는 경우, 보고서 템플릿 편집기도 포함됩니다.
Reprocessing(리프로세싱)Data Analysis 모듈에서, 첫 번째 처리가 완료된 후 처리를 반복하는 것을 의미합니다.
Response(감응)Data Analysis 모듈에서, 검출기에 의해 얻어되는 신호의 크기입니다. 감응은 최고 강도에서의 신호 높이 또는 베이스라인 위의 신호 면적으로 측정할 수 있습니다.
Response factor(감응 계수)Data Analysis 모듈에서, 화합물 농도에 대한 감응(높이 또는 면적으로서의 신호 크기)의 비율입니다.
Response factor(감응 계수) = 감응(Response)/양(Amount)
또는 감응에 대한 농도의 비율도 될 수 있습니다.
Response factor(감응 계수) = 양(Amount)/감응(Response)
Response update(감응 업데이트)검량에서 검량 표준물질의 새 주입을 기반으로 분석물의 감응 계수를 재계산하는 것을 말합니다.
Result calibration curve(결과 검량 곡선)Data Analysis 모듈에서, 개별 주입 또는 연속 주입 결과의 일부로 저장된 분석법 검량 곡선의 사본입니다.
Result set(결과 세트)결과 세트에는 실행된 시퀀스의 결과가 포함됩니다. raw data, 수집 방법, 데이터 분석 방법, 결과 및 사용된 보고서 템플릿으로 구성됩니다.
Retention time locking(머무름 시간 고정(RTL))머무름 시간은 크로마토그래피의 기본적인 정성적 측정이며, 이를 통해 표준물질과 비교하여 화합물 식별을 수행할 수 있습니다. 컬럼 트리밍, 유속 설정값 또는 오븐 파라미터 등의 크로마토그래피 시스템에 변화가 생기면 관심 화합물의 머무름 시간에 영향을 미칠 수 있습니다.
머무름 시간 고정은 그러한 파라미터가 머무름 시간에 미칠 수 있는 영향을 평가하고 최소화할 수 있는 절차입니다.
Ribbon(리본)애플리케이션 창의 상단에 항상 표시되는 도구 모음 요소입니다. 클래식 메뉴와 애플리케이션 도구 모음의 조합입니다. 리본에는 2가지 유형의 탭이 포함됩니다. 첫 번째 유형은 항상 사용할 수 있으며(예: "홈") 애플리케이션에서 선택한 대상이나 창에 관계없이 나와있는 기능에 액세스할 수 있습니다. 두 번째 유형은 애플리케이션에서 특정 요소가 선택된 경우에만 나타납니다.
Ribbon group(리본 그룹)리본 탭의 사용자 인터페이스 요소로 이루어진 그룹입니다.
Ribbon tab(리본 탭)리본에서 애플리케이션 요소를 논리적으로 분리합니다. 한 번에 1개의 탭만 표시됩니다.
RTE보고서 템플릿 편집기(Report Template Editor)입니다.
RTL Calibration files(RTL 검량 파일)다양한 압력(-20%, -10%, 공칭, +10%, +20%)에서 수집된 5개의 데이터 파일입니다.
RTL Lock files(RTL 잠금 파일)잠금을 설정하는 데 사용되는 데이터 파일입니다. 이 파일에서는 고정 화합물의 실제 머무름 시간과 파일을 수집하는 데 사용된 압력을 검량 곡선 및 고정 머무름 시간과 비교하여 고정 압력을 결정합니다.
Run type(실행 유형)검량 표준물질을 처리하기 전에 기존 검량점의 저장 또는 제거 여부를 결정합니다. Clear all calibration(모든 캘리브레이션 지우기) 실행 유형을 사용하면 표준물질이 처리되기 전에 모든 검량점이 제거됩니다. Clear calibration at level(레벨에서 캘리브레이션 지우기) 실행 유형을 사용하면 현재 검량 수준의 검량점만 제거됩니다. Acquisition(시퀀스 테이블) 또는 Data Analysis(주입 목록)에서 실행 유형을 정의합니다.
Sample amount(시료의 양)바이알에 든 시료의 총량입니다.
Sample information(시료 정보)선택한 주입에 대한 정보입니다. 시퀀스, 시료 및 주입 정보가 포함됩니다. 이 정보는 실행을 설정할 때 사용자가 입력하거나(예: 시료 이름) 시스템에 의해 생성될 수 있습니다(예: 수집 날짜/시간).
Sample name(시료 이름)데이터 파일 및 보고서에서 시료를 식별하는 데 사용됩니다. 시료에 대해 사용자가 입력하는 이름(1~16자)입니다.
Sample type(시료 유형)사용자가 선택하는 시료 유형에 따라 시료가 분석용 시료인지, 검량 표준물질인지, 바탕 시료인지가 결정됩니다.
Scan mode(스캔 모드)검출기가 질량 범위에 걸쳐 높은 질량에서 낮은 질량으로 스캔하는 데이터 수집 기법입니다. 1회의 스캔이 완료되면 시스템이 재설정되고 범위를 즉시 다시 스캔합니다.
GC/MS 기기의 경우, 이 프로세스는 MSD가 꺼져 있을 때 실행 시작 시 용매 지연 시간을 제외하고 실행 중에 계속해서 반복됩니다.
액체 크로마토그래피 질량분석 기기의 경우, 스캔은 분석법의 일환으로 켜지거나 꺼집니다. 기기 성능에 악영향을 끼칠 만한 소금과 같은 성분이 용출되면 LC 유출물이 폐기물로 전환될 수 있습니다.
SDMS과학 데이터 관리 시스템(Scientific Data Management System)으로, 기기 데이터 및 기타 문서를 포함한 파일과 메타데이터를 구성하기 위한 데이터 중심 소프트웨어입니다.
Semivolatile compounds(준휘발성 화합물)유기 용매로 추출하여 분석을 위해 준비할 수 있는 화합물을 말합니다. 준휘발성 화합물은 염기성/중성/산성(BNA) 화합물이라고도 합니다.
Sequence(시퀀스)여러 시료를 실행하기 위한 정보를 포함합니다. 이 정보는 시퀀스 테이블에 입력되며 테이블에는 수행할 각 주입에 대한 라인이 있어야 합니다. 시퀀스는 저장가능하며 다른 시료 일괄 처리를 실행하기 위한 시작점으로 불러올 수 있습니다.
Signal(신호)전체 실행 과정 동안 검출기에서 빠르게 측정된 감응입니다. 여러 측정 값(예: 다이오드 어레이 또는 다중 파장 검출기)을 제공하도록 검출기를 구성할 수 있는 경우, 각 감응은 서로 다른 신호로 간주됩니다.
Signal selector(신호 선택기)Data Analysis 모듈에서, 데이터 분석의 데이터 처리 보기에 있는 탐색 창의 섹션입니다. 표시할 신호를 신호 선택에서 선택할 수 있습니다.
SIM mode(SIM 모드)선택적 이온 모니터링(Selected Ion Monitoring) 모드로, 질량 분석에서 최대 감도를 얻기 위해 하나 이상의 m/z 값이 모니터링되는 데이터 수집 기법입니다.
Single sample(단일 시료)결과 세트의 일부가 아닌 각각의 실행을 말합니다. 단일 시료 실행 패널 등으로 생성될 수 있습니다.
Skim valley ratio(스킴 밸리 비율)Data Analysis 모듈에서, 꼬리 또는 전면 스킴 높이 비율과 함께 용매의 꼬리 또는 전면에 있는 작은 피크 또는 다른 큰 피크를 스키밍하는 탄젠트의 조건을 설정하는 초기 적분기 이벤트입니다. 베이스라인 보정된 자식 피크 높이와 베이스라인 보정된 밸리 높이의 비율입니다.
Slope(기울기)Data Analysis 모듈에서, 파라미터의 변화율을 말합니다. 신호의 경우 기울기는 화합물의 농도 변화율을 나타냅니다.
Slope sensitivity(기울기 감도)Data Analysis 모듈에서, 적분 중 피크의 시작 지점과 끝 지점을 식별하는 데 사용되는 신호 기울기의 값을 설정하는 적분기 이벤트입니다.
Solvent delay(용매 지연)GC/MS 기기의 경우, 질량 분석기가 켜지고 실행이 시작된 후의 분 단위 시간입니다. MS는 용매 피크가 컬럼에서 용출되어 MS를 통과할 때까지 꺼진 상태여야 합니다. 25미터 모세관 컬럼의 경우 용매 지연은 일반적으로 2분이면 충분합니다.
Solvent peak(용매 피크)GC에서 일반적으로 분석 측면에서 중요하지 않은 매우 큰 피크인 용매 피크는 정상적으로 적분되지 않습니다. 그러나 분석 관심 대상인 작은 피크가 용매 피크의 꼬리처럼 용매 피크 가까이에서 용출되는 경우, 특수 적분 조건을 설정하여 용매 피크 꼬리의 기여도에 대해 보정된 면적을 계산할 수 있습니다.
Split peak(갈라진 피크)Data Analysis 모듈에서, 드롭 라인으로 피크를 분할할 지점을 지정하는 적분 이벤트입니다. 가장 가까운 밸리 또는 특정 지점에서 피크를 분할할 수 있습니다.
Standard(표준물질)정량적 검량을 제공하는 데 사용되는 알려진 양의 표적 화합물 및 내부 표준물질을 포함하는 시료입니다. 검량 시료 또는 검량 표준물질이라고도 합니다.
Standard tangent skim(표준 탄젠트 스킴)어미 피크와 자식 피크에 가장 잘 맞도록 지수 및 직선 계산을 결합하는 적분 절차입니다.
Surrogate(대체 표준물질)시료 준비 전 모든 표준물질, 바탕 시료, 매트릭스 첨가, 매트릭스 첨가 이중 시료 및 미지 시료에 추가되는 화합물입니다. 대체 표준물질은 알려진 농도로 정확히 추가됩니다. 시료 준비 프로세스의 효율성을 결정하는 데 사용됩니다. 대체 표준물질은 표적 화합물과 화학적 특성이 유사해야 하지만 실제 시료 매트릭스에서 발견되어서는 안 됩니다. 중수소화 화합물은 대체 화합물로 자주 사용됩니다. 대체 표준물질은 종종 시스템 모니터링 화합물이라고도 합니다.
Tail peak skim height ratio(꼬리 피크 스킴 높이 비율)Data Analysis 모듈에서, 스킴 밸리 비율과 함께 용매의 꼬리에 있는 작은 피크 또는 다른 큰 피크를 스키밍하는 탄젠트의 조건을 설정하는 초기 적분 이벤트입니다. 베이스라인이 보정된 부모 피크 높이와 베이스라인이 보정된 자식 피크 높이의 비율입니다.
Tail tangent skim(꼬리 탄젠트 스킴)Data Analysis 모듈에서, 다음 피크의 후행 에지의 탄젠트 스키밍(켜짐/꺼짐)을 트리거하고 피크를 용매 피크로 지정하는 적분 이벤트입니다.
Tangent skim mode(탄젠트 스킴 모드)Data Analysis 모듈에서, 탄젠트 스키밍의 유형을 지수, 새 지수, 표준 또는 직선으로 설정하는 적분기 이벤트입니다.
Tangent skimming(탄젠트 스키밍)Data Analysis 모듈에서. 주 피크의 기울기에 근사하는 선형 또는 지수 탄젠트를 구성하여 피크 숄더를 적분하는 절차입니다.
Target compound(표적 화합물)환경 분석 프로토콜에 의해 분석용으로 지정된 화합물입니다.
Target ion(표적 이온)질량 분석법에서 표적 화합물의 이온 특성으로, 되도록 이 화합물을 머무름 시간이 유사한 다른 화합물과 구별하는 특성이 좋습니다. 이 이온의 추출 이온 크로마토그램 또는 SIM 이온은 정량화에 사용됩니다.
TIC총 이온 크로마토그램(Total Ion Chromatogram)으로, 질량 분석에서 Y축은 각 스캔에 대한 모든 이온 존재비의 합입니다. TIC는 데이터 파일을 처음 로드할 때 Data Analysis 창에 표시됩니다. 양이온 모드, 음이온 모드 또는 다중 Fragmentor 모드에서 실행되는 LC/MS 데이터의 경우 각 데이터 파일에 대해 여러 TIC가 표시됩니다.
Time reference peak(시간 기준 피크)Data Analysis 모듈에서, 머무름/이동 시간의 재현성을 확인하고 필요한 경우 크로마토그래피 조건에서 드리프트를 보정하는 데 사용되는 피크입니다.
Timed group(시간 그룹)시간 영역별로 정의된 피크의 그룹입니다. 이 그룹에는 영역 내에 존재하는 식별된 피크(화합물)가 포함될 수 있습니다. 시간 그룹은 자체 캘리브레이션 파라미터에 따라 정량화됩니다. 시간 그룹의 개별 피크는 그룹 RF를 사용하여 정량화될 수 있습니다.
Tool bar(도구 모음)리본 도구 모음에서 사용할 수 있는 명령 외에도, 각 창에는 특정 명령이 있는 자체 도구 모음이 있을 수 있습니다.
Trace Ion Detection (TID)(극미량 이온 검출)GC/MS 기기의 경우, 사용자는 분석 중에 더 낮은 방법 검출 한계(Method Detection Limit, MDL)를 얻을 수 있습니다. 그러면 총 이온 크로마토그램 및 추출 이온 크로마토그램의 노이즈가 줄어듭니다. 노이즈가 낮을수록 분석 및 표준물질에 대한 피크 높이와 피크 면적을 계산하기 위한 베이스라인의 재현 가능성이 더 높아집니다. TID는 또한 복잡한 크로마토그램에서 수동 적분이 필요한 피크의 수를 줄여줍니다.
Tuning(튜닝)질량 분석법에서 MSD의 성능을 최적화하기 위한 프로세스입니다. 튜닝의 목표는 감도를 최대화하는 동시에 허용 가능한 분리능을 유지하고 측정된 정확한 질량값을 보장하며 스펙트럼 전체에 걸쳐 원하는 상대 존재비를 제공하는 것입니다.
Unassigned peak(할당되지 않은 피크)Data Analysis 모듈에서, 적분기가 베이스라인과 신호 사이에 있지만 일반적인 피크 시작 지점과 끝 지점을 벗어나는 면적을 처리하는 지점(켜짐/꺼짐)을 할당되지 않은 면적으로 설정하는 적분 이벤트입니다.
Uncalibrated compound(검량되지 않은 화합물)식별되었지만 검량 테이블에는 없는 화합물입니다.
Unknown(미지물질)알 수 없는 농도의 정량화할 화합물을 포함하는 시료를 간단하게 지칭하는 말입니다.
Valley baseline(밸리 베이스라인)적분 시, 베이스라인을 첫 번째 피크의 시작 지점 베이스라인에서 밸리로, 밸리에서 두 번째 피크의 끝 지점 베이스라인으로 그려서 2개의 분리되지 않은 피크를 분리하는 방법입니다.
View(보기)보기는 단일 소프트웨어 애플리케이션 내에서 다양한 주요 사용자 인터페이스를 구분합니다. 보기는 일반적으로 왼쪽에 있는 단일 탐색 요소를 공유하여 특정 보기 내에서 데이터 개체에 대한 보기와 탐색을 전환할 수 있게 합니다. 예를 들면, Microsoft Outlook은 메일, 일정, 작업 등의 보기로 구분됩니다. 일반적으로 보기에서 처리되는 데이터 개체/작업은 다양합니다.
VOA compounds(VOA 화합물)퍼지 및 트랩 기법을 사용하여 분석을 위해 준비할 수 있는 휘발성 유기 분석(Volatile organic analysis) 화합물을 말합니다. 휘발성 화합물 또는 퍼지 가능 화합물이라고도 합니다.
Weighting mode(가중 모드)곡선 식을 계산할 때 검량점에 가중치를 적용하는 방법입니다. 가중 모드는 검량 곡선으로 검량된 각 화합물 또는 시간 그룹에 대한 분석법에서 정의할 수 있습니다.
Workspace(작업 영역)다양한 창이 표시되는 사용자 인터페이스의 영역입니다. 작업 영역에는 리본 및 탐색 트리가 포함되지 않습니다.