在峰顶点下方通过的嵌套基线

从 2.8 版本开始,您可以绘制在峰顶点下方通过的嵌套基线。对于旧版本,或选择了手动积分兼容模式时,嵌套基线受峰顶点的限制。

兼容模式:嵌套峰受顶点限制
兼容模式:嵌套峰受顶点限制
默认模式:嵌套峰可在顶点下方通过
默认模式:嵌套峰可在顶点下方通过

当您创建在顶点下方通过的嵌套峰时,色谱图将包含两个保留时间相同的峰。默认情况下,系统将基峰识别为保留时间的匹配峰。要改为选择嵌套峰,请在化合物识别参数中为峰匹配选择最接近嵌套

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