通过调整方法优化 2D 峰分配

此过程说明了如何确保切片中的所有相关峰都分配给正确的化合物并产生相同的 ²D 峰。该过程中使用的示例显示了包含两种化合物的高分辨率样品。

准备

• 要执行所述过程，您需要具备以下权限。权限在控制面板中配置。

  • 项目管理  > 编辑项目内容

  • 处理方法  > 编辑 2D 峰分配参数

  • 数据处理  > 重新处理数据

  • 如果项目执行方法批准，则方法状态必须是通用。有关详细信息，请参阅方法批准。

• 您已调用了一个与 2D-LC 方法关联的单个样品或结果集。

1. 要检查当前 2D 峰分配的质量，请重新处理数据。

2. 打开等高线图 2D 窗口，单击 （显示 2D 峰区域）以查看分配的 2D 峰。

   在此示例中，样品仅包含两种化合物，因此应该只有两个峰区域。但是，系统发现了多个峰区域。

   

3. 在处理方法中，选择 2D 峰 > 分配。

4. 调整绝对 ²D 保留时间窗口下的值。

   在此示例中，其中一个化合物的 ²D 保留时间在 0.900  和 0.910 之间变化。

   

   因此，绝对 ²D 保留时间窗口设置为 0.005。

5. 再次重新处理，然后在等高线图中检查结果。

   现在，等高线图仅显示了两个预期的峰区域。

   

另请参阅

保留时间窗口的评估