指定されたソースからオンラインサンプルマネージャが吸引を行います。
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パラメータ |
値 |
説明 | |||
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吸引 | デフォルト | 現在のメソッドで指定されている量 オンラインサンプルマネージャ/ハイブリッドマルチサンプラの設定を参照してください。 | |||
最大 | マルチサンプラのコンフィグレーションによって定義される最大量。 | ||||
<値> | フィールドで指定した値。現在のメソッドで指定されている注入量より優先されます。 | ||||
吸引元 |
サンプル | サンプル情報またはシーケンス/ワークリストで指定されているポジション。 | |||
ロケーション | ホテルに読み込まれているサンプルコンテナー上の指定されたロケーション。ロケーションはウェルまたはバイアルです。 ロケーションの指定を参照してください。 | ||||
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現在のコンテナー | 現在使用されているサンプルコンテナーを参照する、ユーザー指定のロケーション。マルチサンプラドロワーの指定は省略できます。ドロワーの指定を省略した場合、使用するロケーションの行と列を指定するだけで十分です。 | ||||
サンプル+ | 前回指定したバイアルロケーション（サンプル情報またはシーケンス/ワークリストで指定）からの増分を指定。ポジション N 個分増やして、サンプルを新しいポジションから吸引します。
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ロケーション+ | 前回指定したウェルプレートロケーション（サンプル情報またはシーケンス/ワークリストで指定）からの増分を指定。N 行 M 列分増やして、サンプルを新しいポジションから吸引します。
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プレート+ | 前回指定したプレートポジション（サンプル情報またはシーケンス/ワークリストで指定）からの増分を指定。ポジション N 個分増やして、サンプルを新しいプレートから吸引します。 | ||||
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エアー | ニードルを通じてエアーを吸引します。この操作は、現在のニードルポジションで実行されます。ニードルが移動することはありません | ||||
速度 |
デフォルト | 現在のメソッドで指定されている吸引速度 オンラインサンプルマネージャ/ハイブリッドマルチサンプラの設定を参照してください。 | |||
最高 | 最高吸引速度 | ||||
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<値> | フィールドで指定した値。現在のメソッドで指定されている吸引速度より優先されます。 | ||||
オフセット |
デフォルト | 現在のメソッドで指定されている吸引ポジション。 オンラインサンプルマネージャ/ハイブリッドマルチサンプラの設定を参照してください。 | |||
<値> | フィールドで指定した値。現在のメソッドで指定されている［ニードル高さ］［オフセット］より優先されます。 オフセットは、許容範囲をカバーするための微量のクリアランスとして、バイアル/ウェルの底部から計算されます。ニードルがバイアル/ウェルの底に触れるようにするには、負のオフセット値を使用してください。バイアル/ウェル下部の沈殿を吸引しないよう、あるいは 2 相サンプルの 1 相を選択するためにバイアル/ウェルのニードルを上げるには正のオフセットを使用します。 |