積分パラメータの最適化

積分イベントを適切に設定しておくことにより、オリゴ解析中の UV、TIC、EIC のマニュアル積分を最小限にします。以下の設定を推奨します。これらの設定は、お客様のクロマトグラフィ結果に応じて調整してください。

積分イベントの更新には、積分の最適化ウィザードの使用を推奨します。または、積分イベントテーブルを使用して積分イベントを直接編集することもできます。

積分の最適化の詳細については、積分の最適化を参照してください。

準備

以下の権限が必要です。権限は、コントロールパネルで設定します。

  • プロジェクト管理 > プロジェクトコンテンツの編集

  • データ解析 > データの再解析

  • 解析メソッド > 一般パラメータの編集

  • データ解析 > 積分の最適化の使用

  • 解析メソッド > 一般パラメータの編集

  • 解析メソッド > 積分パラメータの編集

  • 解析メソッド > マスターメソッドの保存

  • 解析メソッド > 結果セットメソッドの保存

  1. データ解析で、測定した Oligo データの結果セットを読み込みます。

  2. 結果に関連付けた解析メソッドを編集します。

  3. 全般 > プロパティグローバルタブで、

    ChemStation インテグレータを選択します。

  4. シグナル固有の積分を準備します。

    ChemStation の積分イベント > 標準で、UV および TIC スキャンシグナルの両方で、シグナル固有のイベントを使用を選択します。EIC シグナルは、グローバル設定のままにします。

  5. クロマトグラムを抽出し、EIC シグナルを作成します。

    積分の最適化の準備として、最低濃度のキャリブレーションサンプルの TIC からクロマトグラムをいくつか抽出します。既知イオンのリストから、レスポンスが低いことが分かっているイオンをいくつか選択します。

  6. UV シグナルの積分を最適化します。

    • 最低濃度のキャリブレーションサンプルの UV シグナルを選択します。

      一般的に、UV トレースは、早く溶出する不純物と遅く溶出する不純物のピーク分割のベースラインを確立する必要があります。すべてのショートマー、早期溶出の不純物に対応するため、サンプルのベースラインは、通常 9 分から 24 分に開始します。したがって、ピーク幅の積分イベントを、1.0 以上など、可能な限り広く設定します。さらに、UV ベースラインは、ベースライン積分イベントを使用して、マニュアルで設定できます。

    • 面積和 (オン)をピークの前に追加し、面積和 (オフ)をピークの後に追加します。

    • ベースライン(今すぐ)を、面積和の開始点に追加します。

    • ベースラインが正しく適用されるよう、ピークの除外パラメータ(高さリジェクトおよび面積リジェクト)を調整します。

    • ここでは、必ず UV シグナルのイベントのみが更新されるようにします。積分の最適化ウィザードで、グローバル更新を使用しないでください。

  7. TIC 積分を最適化します。

    • 最低濃度のキャリブレーションサンプルの TIC シグナルを選択します。

    • FLP ピークが積分されるように、積分イベントを調整します。

    • ここでは、必ず TIC シグナルのイベントのみが更新されるようにします。積分の最適化ウィザードで、グローバル更新を使用しないでください。

  8. EIC シグナルの積分を最適化します。

    • 最低濃度のキャリブレーションサンプルの EIC シグナルを選択します。

    • さまざまな不純物に対応できるよう、非常に感度の高い積分を設定します。たとえば、面積リジェクトまたは面積 % リジェクトを小さい値に設定します。

    • メソッド更新 - グローバル機能を使ってメソッドを更新します。この操作により、すべての EIC シグナルに対する積分パラメータが更新されます。UV シグナルと TIC シグナルの設定は、シグナル固有の設定しているため、変更されません。

    • 他の EIC シグナルで更新されたパラメータをチェックするため、積分の最適化を再開し、メソッドからのパラメータを使用を選択します。

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