メソッドの調整による 2D ピークの割り当ての最適化

この手順では、分画のすべての目的ピークを確実に正しい化合物に割り当て、対応する ²D ピークに寄与するよう設定する方法を説明します。手順で示す例では、2 つの化合物を含むハイレゾサンプリングによるサンプルを使用しています。

準備

• 以下で説明する手順を実行するには、次の権限が必要です。権限は、コントロールパネルで設定します。

  • プロジェクト管理 > プロジェクトコンテンツの編集

  • 解析メソッド > 2D ピーク割り当てパラメータの編集

  • データ解析 > データの再解析

  • プロジェクトで「メソッド承認を適用」が設定されている場合、メソッドは一般ステータスである必要があります。詳細については、メソッド承認を参照してください。

• 2D-LC メソッドが関連付けられたシングルサンプルまたは結果セットが読み込まれていること。

1. 現在の 2D ピークの割り当てを確認するために、データを再解析します。

2. 2D 等高線プロットウィンドウを開いて、 （2D ピークの範囲を表示）をクリックして、割り当てられている 2D ピークを確認します。

   以下の例では、サンプルに含まれている化合物は 2 つだけです。そのため、ピーク領域は 2 つだけ存在するはずです。しかし、システムは複数のピーク領域を検出しています。

   

3. 解析メソッドで、2D ピーク > 割り当て を選択します。

4. ²D 絶対リテンションタイムウィンドウの値を調整します。

   以下の例では、化合物のうちの 1 つの ²D リテンションタイムが 0.900 ～ 0.910 の範囲で変化しています。

   

   そのため、²D 絶対リテンションタイムウィンドウを 0.005 に設定します。

5. もう一度、再解析を実行して、等高線プロットで結果を確認します。

   等高線プロットに、予測ピーク範囲が 2 つだけ表示されるようになります。

   

関連項目

リテンションタイムウィンドウの評価