处理方法：质谱/光谱分析：MS 谱图解卷积

注意

使用 LC/MS 谱图解卷积方法配置进行质谱解卷积。质谱解卷积方法参数位于质谱/光谱分析 > MS 谱图解卷积中。

解卷积算法使用这些参数来寻找和组合相关离子、计算电荷，并计算分子量。使用默认设置，包括高分子量和低分子量化合物。对于个别样品，您可能想更改其中一部分。

自动解卷积

运行自动解卷积	如果希望在每次数据处理期间自动运行解卷积，请选择此复选框。
使用 RT 窗口	可选：选择保留时间窗口。自动解卷积只会在指定时间内的 TIC 峰谱图上运行。
TIC 峰类型	从 TIC SCAN 信号中选择自动解卷积应使用的峰类型： 已识别的峰：只有化合物表（处理方法中的化合物 > 识别节点）中定义的峰才会被用于自动解卷积。 未识别的峰：只有未在化合物表（处理方法中的化合物 > 识别节点）中列出的峰才用于自动解卷积。 所有峰：已识别和未识别的峰都用于自动解卷积。
TIC 峰阈值	选择从 TIC SCAN 信号中过滤峰的方式： 无：将对 MS 色谱图中的所有峰进行解卷积，而不进行任何筛选。 前 (n) 个峰：对 MS 色谱图中指定数量的最大峰（按峰高）进行解卷积。 峰高：对 MS 色谱图中峰高大于指定值的所有峰进行解卷积。 峰面积：对 MS 色谱图中峰面积大于指定值的所有峰进行解卷积。

加合物

这些组合框列出了常见的正和负离子加合物。所选离子将在解卷积过程中用于补偿产生多电荷谱图的加合物离子。

要添加正或负离子加合物，请在相应输入框中输入其化学式，然后单击 +。要从列表中删除加合物，请右键单击它并选择删除。

基本设置

使用 m/z 范围	如果要查看特定 m/z 范围的质谱图解卷积结果，请选择此复选框。选中此复选框将启用设置此 m/z 范围的字段。 运行解卷积后，“MS 谱图”窗口将以浅灰色显示 m/z 范围。
低分子量	设置将由解卷积报告的最低分子量。默认为 500 amu。
高分子量	设置最高分子量。默认为 50,000 amu。
最大电荷数	最大电荷数不一定表示电荷分配的绝对阈值。它只是表示用来搜索相关峰的某个峰的最大电荷数。例如，假设最大电荷数是 30，如果在搜索相关峰时对 A 峰设置 30 的电荷数，则 A 峰会找到电荷数为 27-29 和 31-33 的其它邻近峰。电荷数 31-33 的峰不会仅仅因为最大电荷数是 30 而被忽略。然而，当搜索相关峰时，高于 30 的电荷态不会被应用到 A 峰。 设置默认值最大电荷数 (50) 和集合中的最小峰数 (3) 以使高分子量和低分子量化合物都能被找到。如果存在某个具有很多峰的谱图，并且您将集合中的最小峰数设置为 3，那么在使用这些默认值时要十分小心。在这些条件下，算法很容易找到 2 个或 3 个峰的额外组分。为了限制算法的应用，当集合中的最小峰数设置为 3 时，请设置较低的最大电荷数。只有 2 个或 3 个峰的组分通常具有较低的分子量，所以较低的电荷范围是合适的。 例如，一个 m/z 值约为 1500 的峰上的电荷为 30，其分子量接近 45,000。因此，对于分子量不超过 45,000 的化合物，将最大电荷数改为 30 就足够了。如果需要更高的最大电荷数来寻找高分子量化合物，请将集合中的最小峰数改为 4 或更多。高分子量化合物通常含有具备多个峰的组分。 另一种方法是使用低分子量和高分子量来限制解卷积将报告的质量范围。当使用低分子量和高分子量时，最好将最大电荷数也设置为一个合适的值。
集合中的最小峰数	此参数是在将离子认定为一个集合且可从原始谱图中分离出来之前，所需的相关离子的最小数量。默认值和最小值是 3。增大此值对于具有许多离子的谱图可帮助限制发现的组分。 当最小离子数为 3 时，对电荷态为 +1 和 +2 或 -1 和 -2，+2 和 +3 或 -2 和 -3，+3 和 +4 或 -3 和 -4，仅 +1 或 -1，以及仅 +2 或 -2 的离子集有特殊处理。MW 协议、同位素的存在、同位素差、同位素比和峰宽将用于低电荷分配。
显示不匹配的峰	如果您选中此复选框，则不属于相关离子组的数据点将作为对象包含在中间结果中。默认情况下，该复选框处于清除状态，即只包括匹配的峰。观察不匹配的峰可以让您发现线索，了解到存在未检测到的多电荷小系列。

高级设置

MW 协议 (0.01%)	确定由电荷态转移的离子在分子量上必须相互匹配的程度。输入整数值，但以 0.01% 表示。因此，范围是 0 到 100（即 0 到 1%）；默认值是 5（0.05%）。 较低的值意味着离子必须尽量在分子量相互匹配。较高的值意味着离子可以进一步远离平均分子量。零值意味着离子必须与分子量完全匹配。较低的非零值会在确定哪些组分对数据有效时收紧限制。
绝对噪声阈值	相对相对丰度阈值 (%) 和绝对绝对噪声阈值中的较大者决定了使用哪些离子来查找某个组分的相关离子。使用绝对噪声阈值来检查小信号。默认值为 1000。范围为 0 至 1,000,000。
相对丰度阈值 (%)	此参数的值表示谱图中最大离子丰度的百分比。任何丰度超过丰度界限的离子都可被用来预测一组中的其他离子。默认值为 10%。 相对相对丰度阈值 (%) 和绝对噪声阈值中的较大者决定了哪些离子被用来查找某个组分的相关离子。绝对噪声阈值对于检查大信号特别有用；对于小信号，可能需要降低此值。 此值并不影响谱图中的离子处于一组相关离子中；它只是防止较小的离子被用来预测一组中的其他离子。
MW 算法	选择用于确定分子量的算法。默认设置为曲线拟合，当离子集呈高斯分布或具有同位素分辨率时，曲线拟合效果最佳。质心给出高于 MW 算法阈值 (%) 的数据点的加权平均数。
MW 算法阈值 (%)	根据质谱包络中最高丰度的百分比，确定用于计算分子量的重构质谱包络部分。包含高于此阈值的数据点。默认值为 40%。对于噪声数据或不对称峰，增大此值以从计算中排除包络的基线部分。 该算法从峰最大值开始，沿着前沿坡向下移动，直至达到截止点。如果发现同位素从斜率处上升超过 10%，则会从上升前的低点到对面的后沿画一条截止线。如果设置过高，可能因数据点有限而导致曲线拟合失败。如果出现这种情况，请尝试使用棒状图 MW 算法参数（低电荷态或噪声较大的数据），或者降低 MW 算法阈值 (%)。
包络阈值 (%)	确定在算法接受某组离子作为某个组分之前，该组离子的形状必须与某种高斯形状严格匹配的程度。 范围是 0 到 100%。零表示包络形状不强制。数字越大，对形状的执行越严格。默认值是 50，这意味着包络上升斜率的离子丰度不能低于其左边的离子丰度的 50%。这也意味着在包络下降斜率的离子丰度不能低于其右边的离子丰度的 50%。