两种操作模式

智氢洁离子源操作适用于以下两个模式之一：

• 仅清洁模式 – 在该模式下，会在处理样品后将氢气引入系统。如要使用该模式，您将创建用于该流程的智氢洁离子源“仅清洁”新方法。您现有的样品处理方法将保持不变。
• 采集和清洁模式 -- 在该模式下，将通过 GC/MS EI 对样品进行分析，与此同时，会将少量氢气引入离子体以清除和减少污染物。如要使用该模式，将修改现有的处理方法，以便添加适用于您的应用的低流速氢气。（有关详细信息，请参阅创建和运行 GC/MS 智氢洁离子源“采集和清洁”方法。）

您应该使用哪个模式？

如要确定适用的模式，则必须考虑系统的特定变量，例如样品类型、清理效率和待测元素化学成分。此外，您必须对每个模式的工作流程所产生的影响进行评估。尽管情况有所不同，但我们列出了一些要考虑的主要问题。

1. 您分析的化合物是什么？

极性化合物，含有氧气、氮气、硫或磷的化合物可能会与智氢洁离子源产生的微量（滴流）氢气流产生反应，从而影响检测限或谱图匹配。在这种情况下，不能使用“采集和清洁”模式。“仅清洁”模式可能是更好的解决方案。

非极性化合物和其他高度稳定的化合物（PAH、PCB 等）在氢气中的反应性有限，因此采用“采集和清洁”模式更加理想。

2. 是否需要修改标准操作程序？

使用“采集和清洁”模式时，需要修改 GC/MS 分析方法，在样品处理期间引入氢气。如果您的方法包含在经过验证的 SOP 中，则需要修改 SOP 并进行重新认证。

此外，“仅清洁”模式不需要新的方法，可能只是系统维护 SOP 的补充（取决于您的内部操作）。但是，现有处理方法和 SOP 将保持不变，无需进行重新认证。

您了解智氢洁离子源后将会明确的其他问题，因为其适用于您的应用。