污染

通常通过质谱中的过量背景识别污染。污染可能来自 GC 或 MSD。有时可以通过识别污染物确定污染源。某些污染很可能来自于 GC 中。其他污染很可能来自于 MSD 中。

GC 中的污染

GC 中的污染通常来自于以下来源之一：

• 色谱柱或隔垫流失
• 进样口脏
• 进样口衬管
• 被污染的注射器
• 载气质量差

MSD 中的污染

MSD 中的污染通常来自于以下来源之一：

• 漏气
• 清洗溶剂
• 扩散泵液
• 前级泵油
• 指纹

用于测试离子源以查看它是否被污染（脏）的步骤为：

• 脏离子源测试

常见污染物

下表列出了一些比较常见的污染物、具有这些污染物特征的离子以及可能的污染来源。

离子 (m/z)	化合物	可能的来源
18、28、32、44 或 14、16	H20、N2、O2、 CO2 或 N、O	残留的空气和水、漏气、来自 Vespel 密封圈的气泡
31、51、69、100、119、131、169、181、214、219、264、376、414、426、464、502、 576、614	PFTBA 和相关离子	PFTBA（调谐化合物）
31	甲醇	清洗溶剂
43，58	丙酮	清洗溶剂
78	苯	清洗溶剂
91，92	甲苯或二甲苯	清洗溶剂
105，106	二甲苯	清洗溶剂
151，153	三氯乙烯	清洗溶剂
69	前级泵液或 PFTBA	前级泵蒸汽或校正阀泄漏
73、147、207、221、281、295、355、429	二甲基聚硅氧烷	隔垫流失或聚甲基硅酮色谱柱流失
77、94、115、141、168、170、262、354、446	扩散泵液和相关离子	扩散泵液
149	增塑剂（邻苯二甲酸酯）	被高温损坏的真空密封垫（O 形圈）、乙烯手套
峰相距 14 m/z	烃类	指纹，前级泵油

去除 MSD 中的污染所需的操作取决于污染类型和污染程度。水或溶剂的轻度污染通常可以通过使系统整夜抽吸（使用清洁载气流）去除。泵液或指纹的严重污染更难以去除；可能需要范围更广的清洗。